专利分析 - 拨云见日，一目了然

专 利分析是综合运用统计、大数据和人工智能等一系列技术和工具对专利文献进行定量和定性的分析，用以发现具备一定规模和特征的专利文献后隐藏的专利活动的演变、规律和趋势并用可视化工具将分析结果直观呈现的过程。通过专利分析可以让枯燥的专利数据”活”起来，透过表象，直达本质。专利分析例如可以用于:

  • 识别特定领域技术和市场发展趋势
  • 发现潜在市场机遇
  • 识别潜在合作伙伴/供应商/许可和销售对象
  • 分析竞争对手专利技术，专利申请战略和专利组合; 分析技术热点, 为研发部门提供可借鉴的现有解决方案
  • 评估研发项目国内外专利侵权风险，评估现有产品在目标销售区域的专利侵权风险
  • 协助产品、自有品牌开展专利回避设计

专利分析对于寻找新产品市场和产品空白、避免专利侵权、识别潜在专利许可人、评估专利无效的可能性（专利稳定性）以及评估专利在许可交易中的价值至关重要。

我们可以进行如下类型的专利分析，包括(但不限于):

在进行 FTO 检索后，我们会进行综合分析和评估，以确定可能影响您的产品或服务自由实施的第三方专利权。

权利要求对照表 (Claim Chart - 简称CC)是一种专利侵权或无效程序等专利诉讼中广泛使用的工具。权利要求对照表通常包含两栏。左栏逐一列出诉讼专利中主张的专利权利要求经拆解后的技术特征，右栏则包含(被控侵权)产品、流程或服务的相应技术特征。根据特定国家/组织的专利法律法规，特别是对专利权利要求的司法解释，通过逐一比对和分析对照表中技术特征的对应情况，可以评估是否可能存在专利侵权。

世界知识产权组织（WIPO）将专利全景分析定义为 "特定国家、地区或全球范围内某一特定技术专利状况的快照。它们可以为政策讨论、战略研究规划或技术转让提供信息。它们还可用于根据有关专利法律地位的数据分析专利的有效性"。

我们可以为标准必要专利（SEP）持有人或实施者提供独立的标准必要专利（SEP）必要性评估。我们使用权利要求对照表分析和评估声称为标准必要专利权利要求的技术特征是否与标准文件中相关部分中的技术特征相互对应。

专利空白点分析旨在发现专利布局尚未涵盖的技术领域，也称为 “专利空白点”，以发现潜在的可专利机会，优化公司的专利组合。

知识产权尽职调查是对公司拥有或授权使用的知识产权资产进行评估，以获得对其价值和潜在风险的全面和可靠的评估。

知识产权尽职调查的常见应用场景包括:

– 企业并购交易
– 知识产权许可和销售
– 风险投资
– 金融措施

根据您的具体需求进行与知识产权相关的其他分析。